第641章 新一代光刻机

    第641章 新一代光刻机
    渝州大学城的建设，是渝州打造科技产业高地的一个重大举措，为的就是形成产学研体系，让渝州的经济从传统的工业经济向着知识经济进行转型。
    用现代的科技知识来赋能传统的工业往更高水平进行发展。
    联合大学的是渝州大学城规划当中的一所很是重要的学校。
    渝州大学城自然不是新划一块地完全全新建设，实际上在之前的时候，这片区域内，就已经有大学了。
    渝州应用技术大学就坐落在这里。
    划定这边作为大学城，很重要的一个原因，这里地方够宽敞。
    渝州应用技术大学在这边进行建校，也看中的，就是这边面积足够大。
    另外，离城市也比较近。
    现在虽然是郊区，可过上几年时间，就会迅速的发展成为城市。
    然后市里面在规划大学城的时候，实际上也有一些其他的选择。
    陈怀庆建议啊，要把大学城给安排在城市的边缘位置。
    在十年后，大学城要发展成为城市的中心位置。
    为什么要让大学城位于城市之中呢？
    很简单的一个原因，那就是大学城在偏远的地方，那就没有办法和城市经济有机的联系在一起了。
    毕竟建设大学城就是想要形成集中的智力资源。
    智力资源实际上属于人才资源的一种，人得要聚集在一起，才是能够展现出来强大的。
    联合大学在整个大学城的高校建设当中，属于相当快速的，从决定搞到修建好，用时上极其的短。
    钱到位，市里面也是全力的支持。
    联合大学现在的发展势头上面相当之迅猛。
    现在也就是没有一个大学排名的榜单，不然的话，联合大学的排名，肯定会接连不断的上涨。
    特别在学术这块。
    陈怀庆一直以来都是觉得，大学更加适合从事基础性的研究工作。
    因为这和大学的属性是相互匹配的。
    基础性研究需要花费很多的时间，也需要超高的耐心。
    不仅仅是研究人员得有耐心，决策者也是需要有耐心。
    因为很多的基础研究，数年没有成果，那都算短的。有的十几年的坚持，依旧没有什么成果出来。
    大学里面，有着相当多的便宜甚至可以称之为免费的人力资源可以使用。
    科研民工好像特制的那些在读博士生。
    此时华国的在读博士生并不算是多，每一名博士生都属于相当精贵的存在。
    读博并不是为了提升自己的学历来为找上一份好工作作为筹码。
    此时的人读博，那真的属于准备投身于科研事业才做出的选择。
    有这些优秀的智力资源可以使用，可以在很大程度上面降低在基础研究领域的经费投入。
    当然了，最为重要的一点，还能够顺便的培养一下人才。
    像是墨塔技术研究院，那全部都是从事应用技术方面的研究，出成果那是相当快速的。
    基本长者几个月，短者十几天就能够把可商业化应用的成果给搞出来。
    可以每年花费的经费，也是相当的感人。
    要不是研发出来的技术有着超强的变现能力，都得要承受不住了。
    除了联合大学的事情之外，另外一件事情，也是让陈怀庆很是在意。
    那就是mota400光刻机。
    mota400光刻机是墨塔微电的最新之作，大量采购了国外的一些零部件，在一些核心部件上面，mota400也是有国产的部件。
    相比起mota800光刻机相比，mota400光刻机在一开始的时候，零部件的国产化率就要高出很多。
    像是mota800光刻机在刚出的时候，国产化率只有百分之二十几，而到了现在，mota400光刻机的国产化率直接是百分之四十起步的。
    提升了十几个百分点。
    这无疑来讲，是一个相当巨大的进步。
    mota400光刻机属于第二代光刻机，是mota800的升级版产品。
    可以实现最小400nm的工艺节点，当然，通过特殊的工艺制程的话，可以生产更低节点工艺的芯片。
    只不过在成本上面，可能会是稍稍贵了那么些。
    光刻机最为重要的，就是光源。
    现在采用的光源都属于深紫外光。
    第一代光刻机采用的波长436nm的g-line光源，现在的光刻机采用波长365nm的i-line光源。
    下一代光源也已经确定了，是波长248nm的krf光源。
    第四代的时候，采用波长193nm的arf光源。
    但是，已经有一个新的概念被提了出来，那就是极紫外光刻机。
    这可能很多人都不熟悉，换上一个说法：euv光刻机。每一次光源的改进，都是能够显著提升光刻机所能实现的最小工艺节点。
    只不过极紫外光刻机这个新概念被提了出来，但是却没有企业往这个上面投钱。
    很简单的原因，极紫外光想要作为光源用到光刻上面，技术难度实在有着些过于的高了些。
    反正，这属于一个概念性的东西。
    市场上面的光刻机，还依旧的能够满足需求，大家对于这极紫外光刻机并不急着要。
    实际上，asml在1999年的时候才开始进行euv光刻机的研发工作。
    计划是通过五年时间，在2004年的时候，就推出euv光刻机产品。
    但是到了2010年才是搞出第一台euv光刻机原型机，2016年才是向下游客户正式供货。
    凭借着euv光刻机，asml也是一举成为全球光刻机领域当之无愧的最大巨头。
    光源对于光刻机的重要性，实在过于的重要了一些。
    陈怀庆也是看过一些报道，说华国在极紫外光源上面是有着突破的。
    也不知道具体情况到底如何。
    网络上面的新闻，这很多都只是看上一个乐就行。
    除了光源之外，工作台和新的光刻技术创新，也是能够提升最小工艺节点和生产效率以及产品良品率。
    此时大家对极紫外光刻机没有什么信心，可是陈怀庆却知道，这东西真的能行啊！
    所以陈怀庆已经要求墨塔微电研发euv光刻机，并且在投入上面，还不校
    首先就是在光源技术上面，得要先研究出来大功率的极紫外光源才行。
    陈怀庆觉得，肯定没有什么问题的。
    他可是记得，米国一直在推激光武器的概念。
    然后华国的激光武器都已经可以实战化了，然后米国一下子就哑火了。
    自己提出来的概念，怎么华国给先搞了出来？
    极紫外光刻机是米国那边提出来的，为了打压霓虹的半导体行业，对于极紫外光刻机的研究，根本就不要霓虹参与进来。
    事实上，靠着美欧的能力，整个研究显得很吃力。
    (本章完)