第884章 浸润式DUV光刻机
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对于euv光刻机的研发,困难很多,主要还是在光源这块。
陈怀庆并不急迫,也没有想着说,euv光刻机在短时间就能够搞定。
他心理的预期,在二十年内研发成功,那就完全的没有问题。
毕竟,euv光刻机主要用于10纳米以下。
但是也并不是就只有euv光刻机能够实现10纳米以下制程,像是duv光刻机,最高能够实现7纳米制程节点。
甚至陈怀庆还知道,就民用产品而言,14纳米的芯片,性能上面已经够用,甚至可以说,在性能上还过剩。
依照现在墨塔微电的发展形势来讲,陈怀庆不觉得说,以后掌握14纳米光刻机技术有任何的问题。
就技术而言,墨塔微电在全球光刻机领域,也是第一梯队的。
特别是后道光刻机领域,墨塔微电属于全球第一的存在,其他光刻机企业根本就没法和墨塔微电进行竞争。
优势太过于明显了。
技术优势和价格优势,这两样可是属于核心优势,在市场竞争当中直接打得对手毫无还手之力。
很顺理成章的就把市场给占了。
八九十年代的时候,全球光刻机企业有数十家之多,而到了现在,已经就只剩下数家。
主要在霓虹、华国、北美和欧洲。
至于说全球其他地区,已经在这块没有资格了。
技术门槛和技术壁垒都太高了,根本就不是一般国家,能够玩得转的东西。
注意,这里不是说的企业!
企业很强,但是在国家面前,再强的企业也很弱。
第四代深紫外光(duv)arf光源已经研发成功了,现在就剩下不断的进行完善。
墨塔微电的arf光源光刻机研发进展的也相当顺利。能够如此的顺利,和墨塔微电集合了整个华国的最尖端人才,以及获得国家力量全力支持有着决定性的关系。
另外还有一点,就是最近十几年时间里面,墨塔微电联合各所大学,对人才进行了专项的培养。
大量的优秀理工科大学生毕业生源源不断的加入到墨塔微电。
“第四代光源光刻机预计能够将芯片制程工艺推进到65纳米。”
意味着,在未来五年时间里面,华国在半导体领域,都不用担心被人超越,一直保持在全球第一梯队上面。
“老板,这是我们浸润式duv光刻机样机。”
此时,全球范围内,现在主要的都是干式光刻机,以空气为介质,193nm波长的光线,直接进行光刻。
而浸润式技术即在光刻机中,采用水为介质,让193nm波长的光线,进入水中进行折射后,让波长变成132纳米,从而实现从45nm-10nm级别的光刻。
墨塔微电在之前的时候,自然也是搞的干式光刻机,而在干式光刻机领域,康尼和能佳属于超级巨头。
墨塔微电只能够排在第三位。
至于说阿斯麦此时还只是一家小公司。
上一世,阿斯麦就靠着浸润式duv光刻机将康尼和能佳给彻底的踩在脚下的。
euv光刻机的研发成功,才是彻底成就了阿斯麦在光刻机领域的霸主地位。
“浸润式技术加上第四代光源,我们预计,能够让光刻制程推进到28纳米甚至10纳米以下。”
陈怀庆听着介绍,不由的捏着下巴,上一世的时候,目光都盯着euv光刻机去了,还真的没太怎么注意,euv光刻机之前,光刻机到底是什么。
但是陈怀庆知道,euv光刻机在全球的出货量并不算大,或者说能够用到euv光刻机的芯片产品,还是很少。
价格昂贵,消费者有些接受不了。
而且当时的时候,民用电脑、手机,都是出现了性能过剩的情况。
像是手机,256g的内存,这么大的内存,拿来做什么啊?
除非,是天天拍照,照片还不删除。
即使如此,也很难存满。 一张照片算3m,256g也是能够存上8万多张照片。
考虑到手机内其他程序需要的内存,打个对折,就4万张照片。
平均每天拍上10张照片,一年就是3650张照片,拍4万张照片得要10年。
一部手机,很显然用不到十年。
手机硬件性能过剩,过剩得还挺多。
陈怀庆翻看着浸润式技术的资料,这条技术路线是在1987年的时候由林本建提出来的。
但是在很长时间里面,大家并没有对此有太多的关注或者考虑。
很简单的原因,干式光刻机依旧在高速发展。
直到最近,才是陷入到了一个颈瓶,推进难度稍稍变大了一些。
但是此时大家并没有改弦易辙的想法,157纳米波长的研发在之前已经投入了那么多钱进去,想要更改技术路线,意味着什么,根本就不用多说。
之前投入的钱,全部都打水漂了。
这个时候,谁敢做决定。
再者说了,霓虹的企业,那尿性谁都是知道的。
即使发现有问题,一时半会也转不了弯。
或者说,在其他人没有做出更好的之前,霓虹的企业自己即使发现了错误,他们也会沿着错误的技术路线继续狂奔。
死磕!
就死磕。
因为什么?
这条技术路线上面,不是关系一个两个人,而是一串的人。
在霓虹,权威是不容质疑的。
而在墨塔微电,权威就是用来质疑的!
意识到浸润式技术的技术难度更低、更容易实现之后,墨塔微电就迅速的投入了这项技术的研发。
并且和这项技术的提出者取得联系,邀请他加入项目。
但有的时候,邀请并不是无往不利的。
没有邀请到林本建,虽然可惜了点,但陈怀庆也没有在意。
天下英才何其多,不可能每一位都在吾彀。
墨塔微电现在已经是一家成熟的企业,陈怀庆除了要求继续坚持研发投入和提升国产化率之外,其他的倒是并没有说什么。
对于国产化率,实际上已经不用陈怀庆催了。
因为墨塔微电上下,可是感受到了被限制的滋味。
以前的时候,是一些先进设备不卖,这也已经习惯了。
可连零件都要限制,确实让很多人都没有想到的事情。
有了切肤之痛之后,大家算是实实在在的放弃了幻想,准备战斗。
此时的墨塔微电,主要的竞争对手,还是康尼和能佳两家公司。
既然作为竞争对手,那么自然就是得要收集情报。
陈怀庆并不太关注康尼和能佳,而是更加关注阿斯麦。
英特尔等几家公司,将宝压在了阿斯麦身上。
实际上,墨塔微电也是试着要加入他们的euv研究计划,都进行了一番实质性谈判。
只不过阿斯麦更加能做狗,而墨塔微电要做人,所以谈判自然没有进行下去。
陈怀庆并不急迫,也没有想着说,euv光刻机在短时间就能够搞定。
他心理的预期,在二十年内研发成功,那就完全的没有问题。
毕竟,euv光刻机主要用于10纳米以下。
但是也并不是就只有euv光刻机能够实现10纳米以下制程,像是duv光刻机,最高能够实现7纳米制程节点。
甚至陈怀庆还知道,就民用产品而言,14纳米的芯片,性能上面已经够用,甚至可以说,在性能上还过剩。
依照现在墨塔微电的发展形势来讲,陈怀庆不觉得说,以后掌握14纳米光刻机技术有任何的问题。
就技术而言,墨塔微电在全球光刻机领域,也是第一梯队的。
特别是后道光刻机领域,墨塔微电属于全球第一的存在,其他光刻机企业根本就没法和墨塔微电进行竞争。
优势太过于明显了。
技术优势和价格优势,这两样可是属于核心优势,在市场竞争当中直接打得对手毫无还手之力。
很顺理成章的就把市场给占了。
八九十年代的时候,全球光刻机企业有数十家之多,而到了现在,已经就只剩下数家。
主要在霓虹、华国、北美和欧洲。
至于说全球其他地区,已经在这块没有资格了。
技术门槛和技术壁垒都太高了,根本就不是一般国家,能够玩得转的东西。
注意,这里不是说的企业!
企业很强,但是在国家面前,再强的企业也很弱。
第四代深紫外光(duv)arf光源已经研发成功了,现在就剩下不断的进行完善。
墨塔微电的arf光源光刻机研发进展的也相当顺利。能够如此的顺利,和墨塔微电集合了整个华国的最尖端人才,以及获得国家力量全力支持有着决定性的关系。
另外还有一点,就是最近十几年时间里面,墨塔微电联合各所大学,对人才进行了专项的培养。
大量的优秀理工科大学生毕业生源源不断的加入到墨塔微电。
“第四代光源光刻机预计能够将芯片制程工艺推进到65纳米。”
意味着,在未来五年时间里面,华国在半导体领域,都不用担心被人超越,一直保持在全球第一梯队上面。
“老板,这是我们浸润式duv光刻机样机。”
此时,全球范围内,现在主要的都是干式光刻机,以空气为介质,193nm波长的光线,直接进行光刻。
而浸润式技术即在光刻机中,采用水为介质,让193nm波长的光线,进入水中进行折射后,让波长变成132纳米,从而实现从45nm-10nm级别的光刻。
墨塔微电在之前的时候,自然也是搞的干式光刻机,而在干式光刻机领域,康尼和能佳属于超级巨头。
墨塔微电只能够排在第三位。
至于说阿斯麦此时还只是一家小公司。
上一世,阿斯麦就靠着浸润式duv光刻机将康尼和能佳给彻底的踩在脚下的。
euv光刻机的研发成功,才是彻底成就了阿斯麦在光刻机领域的霸主地位。
“浸润式技术加上第四代光源,我们预计,能够让光刻制程推进到28纳米甚至10纳米以下。”
陈怀庆听着介绍,不由的捏着下巴,上一世的时候,目光都盯着euv光刻机去了,还真的没太怎么注意,euv光刻机之前,光刻机到底是什么。
但是陈怀庆知道,euv光刻机在全球的出货量并不算大,或者说能够用到euv光刻机的芯片产品,还是很少。
价格昂贵,消费者有些接受不了。
而且当时的时候,民用电脑、手机,都是出现了性能过剩的情况。
像是手机,256g的内存,这么大的内存,拿来做什么啊?
除非,是天天拍照,照片还不删除。
即使如此,也很难存满。 一张照片算3m,256g也是能够存上8万多张照片。
考虑到手机内其他程序需要的内存,打个对折,就4万张照片。
平均每天拍上10张照片,一年就是3650张照片,拍4万张照片得要10年。
一部手机,很显然用不到十年。
手机硬件性能过剩,过剩得还挺多。
陈怀庆翻看着浸润式技术的资料,这条技术路线是在1987年的时候由林本建提出来的。
但是在很长时间里面,大家并没有对此有太多的关注或者考虑。
很简单的原因,干式光刻机依旧在高速发展。
直到最近,才是陷入到了一个颈瓶,推进难度稍稍变大了一些。
但是此时大家并没有改弦易辙的想法,157纳米波长的研发在之前已经投入了那么多钱进去,想要更改技术路线,意味着什么,根本就不用多说。
之前投入的钱,全部都打水漂了。
这个时候,谁敢做决定。
再者说了,霓虹的企业,那尿性谁都是知道的。
即使发现有问题,一时半会也转不了弯。
或者说,在其他人没有做出更好的之前,霓虹的企业自己即使发现了错误,他们也会沿着错误的技术路线继续狂奔。
死磕!
就死磕。
因为什么?
这条技术路线上面,不是关系一个两个人,而是一串的人。
在霓虹,权威是不容质疑的。
而在墨塔微电,权威就是用来质疑的!
意识到浸润式技术的技术难度更低、更容易实现之后,墨塔微电就迅速的投入了这项技术的研发。
并且和这项技术的提出者取得联系,邀请他加入项目。
但有的时候,邀请并不是无往不利的。
没有邀请到林本建,虽然可惜了点,但陈怀庆也没有在意。
天下英才何其多,不可能每一位都在吾彀。
墨塔微电现在已经是一家成熟的企业,陈怀庆除了要求继续坚持研发投入和提升国产化率之外,其他的倒是并没有说什么。
对于国产化率,实际上已经不用陈怀庆催了。
因为墨塔微电上下,可是感受到了被限制的滋味。
以前的时候,是一些先进设备不卖,这也已经习惯了。
可连零件都要限制,确实让很多人都没有想到的事情。
有了切肤之痛之后,大家算是实实在在的放弃了幻想,准备战斗。
此时的墨塔微电,主要的竞争对手,还是康尼和能佳两家公司。
既然作为竞争对手,那么自然就是得要收集情报。
陈怀庆并不太关注康尼和能佳,而是更加关注阿斯麦。
英特尔等几家公司,将宝压在了阿斯麦身上。
实际上,墨塔微电也是试着要加入他们的euv研究计划,都进行了一番实质性谈判。
只不过阿斯麦更加能做狗,而墨塔微电要做人,所以谈判自然没有进行下去。
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